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無掩膜數字光刻機(工業型)
發表時間:2020-05-20     閱讀次數:

無掩膜數字光刻機(工業型)

DS-2000/14G

技術特點:

該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明,並配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準係統(可同時使用),拚接獲得大麵積圖形,曝光設定采用微機控製,菜單界麵友好,操作簡便。

主要技術指標

曝光光源:350W汞燈

曝光譜線: i線(365nm)

照明均勻性:±2%;

曝光場麵積:1mm×0.75mm

光刻分辨力:1μm

CCD檢焦,檢測精度:2um

工件台運動定位精度:±0.65μm;

調焦台運動靈敏度:1μm;

工件台運動範圍:X:100mm、 Y:100mm;

對準精度: ±1μm;

調焦台運動行程:±6mm

轉動台行程:±6°以上

基片尺寸:外徑: Ф1mm—Ф100mm,

   厚度:0.1mm—8mm

3.外形尺寸:840mm(長)×450mm(寬) ×830mm(高)

無掩模光刻機係統關鍵技術:曝光光學係統、光勻化技術、圖形發生器、投影物鏡、對焦係統、對準係統、精密工件台、步進拚接、控製軟件等

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