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無掩膜數字光刻機(科研型)
發表時間:2020-05-20     閱讀次數:

無掩膜光刻機(科研型)

型號 DS-2000/14K

1.技術特征 采用DMD作為數字掩模,像素1024×768

采用1倍縮小投影光刻物鏡成像,一次曝光麵積約1mm×0.75mm

采用專利技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明。

采用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現精確工件定位和曝光拚接,

可適應100mm×100mm基片。

2.技術參數

光源:350W球形汞燈(曝光譜線: i線);

照明均勻性:±2%; 物鏡倍率:1倍

曝光場麵積:14mm×10mm 光刻分辨力:14μm

工件台運動範圍:X:100mm、 Y:100mm;

工件台運動定位精度:±1.5μm;

調焦台運動靈敏度:1μm;

調焦台運動行程:6mm 轉動台行程:±6°以上

基片尺寸外徑: Ф15mm—Ф100mm,

厚度:0.1mm.5mm

3.外形尺寸:840mm(長)×450mm(寬) ×830mm(高)

無掩模光刻機係統關鍵技術:曝光光學係統、光勻化技術、圖形發生器、投影物鏡、對焦係統、對準係統、精密工件台、步進拚接、控製軟件等

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