勻膠顯影機

型號CKF-121

淨化勻膠顯影機是適合半導體矽片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合半導體大型晶圓矽片,芯片,晶片,等各種膠體的工藝製版表麵塗覆或光刻工藝勻膠。是集成電路及半導體件生產過程中塗複光致抗腐蝕劑的專用設備

設備中塗膠部分四個工位單片微型機控製四個工位同時工作或分別工作，即各工位的運轉單獨傳動，轉數單獨調節及單獨顯示。

為保證在塗膠工藝中不飛片，設備中吸頭和氣泵中間有四個電磁閥，同時增加一個負壓儲氣罐，保證了吸片牢固和可靠性。

設備中配有專用的空氣淨化裝置。

主要技術指標：

主要技術指標
顯影工位： 一個操作工位
程序時間： 顯影1—99秒 漂洗1—99秒 幹燥1—99秒
旋轉器轉數： 500—8000轉/分（連續可調）
矽片直徑： Φ30—Φ75mm
淨化效果：美國聯邦標準100級淨化
操作區風速： 0.3—0.5米/秒
氣流狀態： 垂直層流
外形尺寸： 650Χ750Χ1620mm

1．控製範圍和精度：轉速控製範圍為：500-8000轉，精度為±3%

2.時間控製範圍為：1-99秒，精度為±5%

3．轉速調整采用高精度D/A轉換，具有128級的精度調諧。

4．轉速查看智能化。（自動識別哪個電機開或關）自動轉換到開啟的電機上。可予先選定，也可在運行中隨時查看任一電機的轉速。

5．采用先進的I2C總線技術和E2PRAM數字存儲器，可預存10組工藝參數（勻膠機A型機可予存10個延時時間，40個電機轉速參數。B型機可予存20個時間參數，80個轉速參數；顯影機可保存9個慢啟動參數，30個時間，30個轉速參數）。保存的參數掉電10年不丟失。調整後的參數自動保存，簡化了操作。

6．具有全自動智能控製功能，當使用全自動方式時隻需放好工件，然後按一下ATART（開始）鍵，吸盤自動打開，定時工作完成後延時6秒電機停穩後自動關閉吸盤，喇叭鳴三聲，提示完成工作。大大的提高了工作效率。

7．定時的時間和轉速的測量全部由軟件控製，定時部分采用倒計時的方式顯示，轉速測量部分直接顯示被測電機的每分鍾轉數。調整部分由軟件和D/A轉換器控製，去掉了原使用CMOS電路采用的撥盤開關和機械電位器的機械觸點。在原基礎上增加了全自動功能，減少了操作程序，避免了頻繁的開關麵板上的按鍵開關，大大的降低了按鍵開關因頻繁使用而損壞。提高了整機的可靠性和使用壽命。調整，啟動，切換，停止，並有提示音。