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URE-2000S/B型雙麵光刻機
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發布日期:2020-05-20
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詳細介紹

雙麵對準紫外光刻機

型號:URE-2000S/B型 

該機采用國內首創的CCD圖像底麵對準技術,單曝光頭正麵曝光實現雙麵對準的總體設計技術。采用新穎的高精度、多自由度掩模—樣片精密對準工件台結構設計,掩模—樣片對準過程直觀,套刻對準速度快、精度高。掩模板與樣片的放置采用推拉式基準平板、真空吸附式,操作方便。

采用創新技術——積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應和實現均勻照明;

1、采用三爪和球氣浮同時找平,無論大片、小片調平精度均高;

2、具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝光,以及接近式曝光四種功能;

3、自動分離對準間隙和消除曝光間隙,間隙分離可達500μm;

4、高倍率雙目雙視場顯微鏡和19英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準過程,

並提供USB輸出;既滿足高精度對準,又可用於檢測曝光結果,且曝光結果和

方便存儲;

5、電機機構、彈性元件和傳感器保證接觸曝光壓力合適且重複性好;

7、曝光波長采用純淨365nm,冷光照明(曝光麵能量15mW/cm ,溫度小於30度);

8、對準完成,自動消除曝光間隙,無橫向漂移且可通過監視器觀察;

9、快門可以單獨開啟,也可以數字設定自動倒計時曝光(設定範圍0.1s-9999.9s);

10、采用350W進口(德國)直流汞燈,可調節光的能量密度;

11、汞燈具有高亮度和“待機”兩種方式,即曝光時采用高亮度照明,而不曝光

時采用低亮度的“待機”,從而延長了汞燈壽命。

12、設備外形美觀精製,性能非常可靠;

13、上下片、版十分方便,自動化程度很高,操作簡便。

二.技術參數

1、曝光麵積:110mm×110mm

2、曝光波長:365nm

3、分辨力:0.8μm(膠厚1.5um的正膠)

4、對準精度:單麵±0.8μm,雙麵±2.5μm

5、掩模尺寸:3寸、4寸、5寸、7寸

6、承片台:2寸、3寸、4寸、6寸

7、樣片尺寸直徑Ф30mm--Ф150mm(可適應非標準片或碎片) 厚度0.1mm-6mm(可擴展為15mm)

8、照明均勻性:±3%(Ф100mm範圍)±5%(Ф150mm範圍)

9、掩模相對於樣片運動行程: X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度

10、汞燈功率:1000W(直流 德國歐司朗長壽命型)

11、曝光方式:定時(到計時方式0.1s—9999.9s任意設定)

12、最大膠厚:600um

13、光源平行性:6度

14、雙目雙視場顯微鏡:物鏡三隊:4X、10X、20X,目鏡三對:10X、16X、20X

應用領域

集成電路芯片、電子封裝、微電子機械係統、微光學元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻,波導陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等



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