無掩膜數字光刻機(工業型）

DS-2000/14G

技術特點：

該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板，采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明，並配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準係統（可同時使用），拚接獲得大麵積圖形，曝光設定采用微機控製，菜單界麵友好，操作簡便。

主要技術指標

曝光光源：350W汞燈

曝光譜線： i線（365nm)

照明均勻性：±2%；

曝光場麵積：1mm×0.75mm

光刻分辨力：1μm

CCD檢焦，檢測精度：2um

工件台運動定位精度：±0.65μm；

調焦台運動靈敏度：1μm；

工件台運動範圍：X：100mm、 Y：100mm；

對準精度： ±1μm；

調焦台運動行程：±6mm

轉動台行程：±6°以上

基片尺寸：外徑: Ф1mm—Ф100mm，

　　 厚度：0.1mm—8mm

3．外形尺寸：840mm（長）×450mm(寬) ×830mm（高）

無掩模光刻機係統關鍵技術：曝光光學係統、光勻化技術、圖形發生器、投影物鏡、對焦係統、對準係統、精密工件台、步進拚接、控製軟件等